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电子束镀膜和真空溅射镀膜的区别

1.两者原理不同

2.膜的粘附性及结合的效果也不同，E-beam镀膜的粘附性教差，但是膜的均匀性好；Sputter的镀膜溅射能量大，和基底的粘附性也好，但是膜会有颗粒也就是均匀性稍差。

3.E-Beam通常配备晶振片，对于已经校准的材料，10nm以下控制效果好，五金uv镀加工厂家，相反Sputter溅射出来的膜会有颗粒，10nm的厚度很难达到精准可控。

4.实用的材料不同，磁控溅射有射频电源，可以做绝缘材料，也可以做金属；但是E-beam只能蒸镀金属。uv镀

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离子镀的历史

真空离子镀膜技术是近几十年才发展起来的一种新的镀膜技术。在离子镀技术兴起的40多年来取得了巨大的进步，我国也有将近30多年的离子镀研究进程。uv镀

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恒缘钛金与您分享在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。uv镀